最近，B站上一位本科生自制光刻机的视频火了。是的，你没听错，一位大连理工大学化工学院的Up主彭译锋，竟然凭着一张图纸给成功在家里搭建了纳米级光刻机，还成功光刻出~75微米（75000纳米）的孔径，被网友盛赞：后浪可畏！

　　更让人惊掉下巴的是，这位同学还在读本科，整个制造过程都是在一间超简陋的小书桌上完成的，全部数学演算全靠一张白板，所有的材料都堆放在桌上地上，简直就是“家居实验室模范”。

　　光刻机（Mask Aligner） 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。